江苏高院：专家辅助人在专利侵权案件中的重要作用(4)
发布时间：2015-06-24 08:20商业秘密网
但也有专家认为，虽然真空度不同会对溅射膜的结构产生一定影响，但是由于该溅射膜厚度非常小，而之后的电镀层相对要厚得多并且还要经过烧蚀处理，这会使得溅射膜的瑕疵对最终产品质量影响很小。
（4）关于电镀时间（技术特征12）
大部分专家认为，虽然电镀工艺的最终效果由多个工艺参数决定，但是在其他条件相同的情况下，电镀时间能够影响泡沫镍电镀的厚度，继而影响最终的面密度。
也有专家认为，虽然被控侵权的方案中电镀时间与涉案专利在数值上有一定的差异，但是不足以说明其对电镀层的质量一定产生实质影响。
（5）关于后处理步骤（技术特征14）
各方专家均认为，泡沫镍的后处理过程至少包括氧化和还原两个过程，而涉案专利中仅提到“800-900℃保温一小时”一个步骤，撰写上存在瑕疵。
在此基础上，部分专家认为涉案专利仅包括了一个步骤，而被控侵权方案涉及多个阶段，二者是完全不同的内容。
其他专家认为根据本领域一般的认识，涉案专利中800-900℃保温一小时应理解为包含了还原过程，但由于无法将被控侵权方案中的保温时间与涉案专利分阶段有效对比，因此没办法确定二者是否产生了基本相同的效果。
江苏高院再审认为：
《最高人民法院关于审理专利纠纷案件应用法律若干问题的解释》第七条规定，专利侵权是指被控侵权的技术方案包含了与某项专利权利要求记载的全部必要技术特征相同或等同的技术特征。在专利侵权诉讼中，如果被控侵权的技术方案有一个或一个以上的技术特征与涉案专利要求保护的必要技术特征既不相同也不等同的，则不认为其构成专利侵权。而《最高人民法院关于审理专利纠纷案件适用法律若干问题的解释》第十七条规定，等同特征是指与专利权利要求记载的技术特征以基本相同的手段，实现基本相同的功能，达到基本相同的效果，并且本领域的普通技术人员无需经过创造性劳动就能够联想到的特征。
对照上述规定，本院认为，现有证据足以证明涉案被控侵权技术方案中的“本底真空度及工作真空度”技术特征与涉案专利权利要求记载的“本底真空度和工作真空度”必要技术特征既不相同也不等同，能够满足上述专利法司法解释所规定的专利侵权判定的相关要求，故被控侵权的技术方案未落入涉案专利权的保护范围，爱蓝天沈阳公司不构成专利侵权。具体理由分析如下：
首先，被控侵权技术方案中的本底真空度及工作真空度分别为2×10-2Pa、（2.0～3.0）×10-1Pa，而涉案专利要求保护的本底真空度及工作真空度分别为（1.1～4.7）×10-3Pa、（2.7～4.7）×10-2Pa，两者相差一个数量级（10倍），明显不相同。
其次，在本案所属技术领域中，真空蒸发、溅射镀膜和离子镀等常被称为物理气相沉积技术，这是本领域中基本的薄膜制作技术。它们均要求沉积薄膜的空间要有一定的真空度。因此，真空技术是薄膜制作技术的基础，获得并保持所需的真空环境是镀膜的必要条件，真空度大小在此类工艺过程中属于重要的工艺参数。
具体言之：
对于本底真空度而言，其抽真空的目的是减少真空室中残余气体（甚至除去真空室壁和真空室中其它零件上可能存在的吸附气体），从而减少沉积到基片上杂质含量，提高沉积薄膜的纯度。本底真空度越高，溅射薄膜的纯度越高，但另一方面，其对抽真空的动力源，设备的承压能力和密封性能等要求都有相应的提高，并且由于提高真空度需要耗费更长的时间，其生产效率可能也会有所降低。本案中，虽然均属高真空度范围，但本底真空度由涉案专利权利要求中的（1.1～4.7）×10-3Pa降低到2×10-2Pa，相差一个数量级（大约10倍左右），相对于权利要求对本底真空度所限定的变化范围（即在10-3Pa数量级上由1.1变化到4.7，大约4倍的压力变化），大约10倍的压力变化应属于明显差异。(作者：王晓东，来源：知产库)
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